رشد نانولوله هاي كربني(CNTs ) به روش بخار شيميايي حرارتي (TCVD) : اثر آماده سازي زير لايه بر كيفيت نانولوله هاي رشد كرده

اولين همايش دانشجويي فناوري نانو - دانشگاه تربيت مدرس

30 الي 2 بهمن 1385، تهران - ايران

نوع ارائه: سخنراني
چكيده:

در اين كار پژوهشي رشد نانو لوله هاي كربن با روش بخاردهي شيميايي حرارتيTCVD يا (Thermal Chemical vapor deposition) به واسطه تجزيه گاز استيلن (C2H2) و با استفاده از تركيب گازهاي متفاوتي مانند آمونياك (NH3) و هيدروژن (H2) در دماي C8000 صورت گرفته است. تاثير آماده سازي زير لايه مانند تاثير دماهاي مختلف اكسيداسيون،و همچنين دماها و زمانهاي متفاوت احياء براي رشد نانولوله هاي كربن بررسي مي شود. براي اين منظور لايه نازكي از كاتاليست نيكل را با روش لايه نشاني پرتو يوني (ion beam sputtering) بر روي زير لايه سيليكوني مي نشانيم. C2H2 به عنوان منبع كربن، و مخلوط گاز آمونياك و هيدروژن را جهت خوردگي سطح و جزيره سازي كاتاليست مورد استفاده قرار مي گيرند. اندازه گيري ضخامت لايه اكسيدي با دستگاه طيف نگار جرمي يون ثانيه يا SIMS صورت گرفت.

كلمات كليدي: